 Исследователи из факультета физики политехнического института Rensselaer и Центра Интегрированной Электроники разработали новый дешевый и быстро сохнущий полимер, который может значительно сократить издержки и повысить эффективность в области производства полупроводников и упаковки компьютерных микросхем. В данной серии изображений, сделанных растровым электронным микроскопом, на которых отображается использование нового полимера PES (полисетный эпоксидный силоксан) в литографии методом УФ печати, хорошо очерченная модель указывает на потенциальную возможность использования материала в технологиях следующего поколения для производства микросхем.
По словам исследователей, помимо более высокой эффективности и сокращения издержек в традиционных процессах фотолитографии, новый материал под названием полисетный эпоксидный силоксан (PES), также должен дать начало новому поколению более дешевой технологии нанопечатной литографии внутри микросхемы. «При помощи этого нового материала производители микросхем смогут исключить несколько этапов из процессов производства и упаковки, что в свою очередь сократит издержки» - говорит Тох-Минг Лу, почетный профессор физики имени Рэя Палмера Бейкера в институте Rensselaer, который осуществлял надзор за исследованием. PES дешевле и надежнее». Широко распространенная методика фотолитографии включает в себя использование сочетания света и химикатов с целью создания сложных микро- и наномоделей на крошечных участках поверхности кремния. В рамках этого процесса на кремниевую подложку укладывается тонкая полимерная пленка – ее называют перераспределяющим слоем, она исключительно важна для работы устройства – что необходимо для задержки распространения сигнала и защиты микросхемы от различных окружающих и механических факторов. Новый материал PES, разработанный группой Лу и компанией Polyset Company, является одной из подобных тонких полимерных пленок. Он обеспечивает несколько преимуществ над материалами, которые традиционно применяются по всей промышленности производства полупроводников. К тому же, новый материал PES также можно использовать в качестве тонкой полимерной пленки для технологии ультрафиолетовой (УФ) нанопечатной литографии внутри микросхемы, которая по-прежнему находится лишь в начальной стадии разработки. Лу говорит, что переход можно облегчить, если постоянно использовать PES в традиционной технологии, а затем продолжить его использование, когда ученые и инженеры будут испытывать устройства следующего поколения и постепенно переходить на них.
| 
->
